标准简介
本规范由中华人民共和国住房和城乡建设部第530号公告发布，自2015年5月1日起实施。其中，第４．２．８、６．１．３（９）、６．１．６（３）、６．２．８（３）、８．１．１、８．２．１（２、３、５）、８．２．５（３）、８．３．１（２、３）、８．３．２（２）、８．６．４、９．１．３、９．３．４、９．４．３、９．５．２、１０．１．３、１０．３．４、１０．３．６、１０．３．９、１１．１．６、１１．２．３、１２．２．５条（款）为强制性条文，必须严格执行。 本规范适用于采用三氯氢硅氢还原法的新建、扩建和改建多晶硅工厂的工程设计，也适用于硅烷歧化法多晶硅厂中三氯氢硅合成、四氯化硅氢化和氯硅烷提纯的工程设计。标准状态：现行
发布部门：住房和城乡建设部
发布日期：2014-08-27
实施日期：2015-05-01
出版日期：2015-05-01
页数：16开， 页数：8， 字数：14千字
前言
１ 总 则２ 术 语３ 基本规定４ 厂址选择及厂区规划５ 工艺设计６ 电气及自动化７ 辅助设施８ 建筑结构９ 给水、排水和消防１０ 采暖、通风与空气调节１１ 环境保护、安全和卫生１２ 节能、余热回收附录Ａ 地下管线与建（构）筑物之间的*小水平净距附录Ｂ 地下管线之间的*小水平净距附录Ｃ 主要房间空气洁净度、温度、湿度本规范用词说明引用标准名录附：条文说明
