标准简介
本标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法,即X 射线光电子能谱法(XPS)。本标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量;通常,本标准适用的氧化硅层厚度不大于6nm。英文名称：Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
标准状态：现行
中标分类：化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
ICS分类：化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2010-09-26
实施日期：2011-08-01
出版日期：2011-08-01
页数：12页
前言
本标准由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口。本标准起草单位:中国科学院化学研究所、中国计量科学研究院。本标准起草人:刘芬、王海、赵良仲、宋小平、赵志娟、邱丽美。
