标准简介
本标准规定了采用体硅压阻工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求和质量检验要求。�� 本标准适用于硅基MEMS制造技术中基于背腔腐蚀和硅�膊ＡЪ�合的体硅压阻加工工艺的加工和质量检验。英文名称：Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the bulk silicon piezoresistance process
标准状态：现行
中标分类：电子元器件与信息技术>>微电路>>L55微电路综合
ICS分类：电子学>>31.200集成电路、微电子学
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2016-08-29
实施日期：2017-03-01
出版日期：2017-03-01
页数：28页
前言
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