标准简介
本标准规定了电磁屏蔽膜用化学镀铜溶液中镍离子和铜离子含量的测定方法。 本标准适用于电磁屏蔽膜用化学镀铜溶液中镍离子和铜离子含量的测试。测定范围:化学镀铜溶液中镍离子浓度以NiSO4 .6H2O计为0.20g/L~2.00g/L;化学镀铜溶液中铜离子浓度以CuSO4 .5H2O计为5.0g/L~60.0g/L。英文名称:Electromagnetic interference shielding film—Electroless copper plating solution—Method of determining concentration of Ni2+ and Cu2+
标准状态:现行
中标分类:化工>>有机化工原料>>G15有机化工原料综合
ICS分类:化工技术>>有机化学>>71.080.99其他有机化学
发布部门:国家质量监督检验检疫.
发布日期:2011-12-05
实施日期:2012-03-01
出版日期:2012-03-01
页数:8页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由中国石油和化学工业联合会提出。本标准由全国光学功能薄膜材料标准化技术委员会(SAC/TC431)归口。本标准起草单位:中国乐凯胶片集团公司、乐凯胶片股份有限公司、化学工业影像材料和照相化学品质检中心。本标准主要起草人:韩明星、李保民。