标准简介
本标准适用于单晶硅、多晶硅中金属杂质素和非金属杂质素含量的测定。本标准包括杂质素（十六个）的反应堆中子活化仪器分析方法、铜和砷的反应堆中子活化放射化分离分析方法、磷的反应堆中子活化放射化分离分析方法、氧的α粒子活化仪器分析方法和碳的氘子活化仪器分析方法。英文名称：The activation analysis method for the determination of elemental impurities in semiconductor silicon materials
标准状态：现行
替代情况：废止公告：国家标准公告2017年第31号
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：29.040.30
发布部门：国家标准局
发布日期：1984-03-28
实施日期：1985-03-01
作废日期：2017-12-15
出版日期：1985-03-01
页数：18页
前言
半金属及半导体材料分析方法相关标准
