标准简介
本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶)。英文名称：High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
标准状态：现行
中标分类：冶金>>有色金属及其合金产品>>H61轻金属及其合金
ICS分类：冶金>>有色金属>>77.120.10铝和铝合金
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2013-09-06
实施日期：2014-05-01
出版日期：2014-05-01
页数：12页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC243)归口。本标准负责起草单位:有研亿金新材料股份有限公司。本标准参加起草单位:宁波江丰电子材料有限公司、新疆众和股份有限公司。本标准主要起草人:万小勇、罗俊锋、廖赞、尚再艳、杨华、朱晓光、孙秀霖、何金江、熊晓东、王兴权、王学泽、钱红兵、喻洁、刘杰、洪涛、努力古、宋玉萍。
