标准简介
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶。英文名称：Magnetron sputtering ruthenium target
标准状态：现行
中标分类：冶金>>有色金属及其合金产品>>H68贵金属及其合金
ICS分类：冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-04-01
出版日期：2017-10-01
页数：12页
前言
贵金属及其合金相关标准
