标准简介
本标准规定了高纯三氧化二镓中杂质元素含量的测定方法。 本标准适用于高纯三氧化二镓中钠、镁、钙、钛、钒、铬、锰、铁、镍、钴、铜、锌、锡、铅、铟含量的测定。各元素测定范围为1×10-6%～4×10-5%。英文名称：Determination of impurities of high purity gallium oxide—Inductively coupled plasma-mass spectrmetry
标准状态：现行
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：冶金>>金属材料试验>>77.040.30金属材料化学分析
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2014-10-14
实施日期：2015-04-01
出版日期：2015-04-01
页数：12页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。本标准起草单位:峨嵋半导体材料研究所、南京中锗科技股份有限公司、广东先导稀材股份有限公司。本标准主要起草人:刘爱华、孙平、种娜、郑孝桃、杨海燕、朱赞芳、陈劼、刘心君。
