标准简介
本标准规定了高纯钨中锂、铍、硼、铬、钛、钒、锰、铁、钴、镍、铜、镓、砷、锶、锆、钽、铌、钼、镉、锑、铪、铅和铋量的测定方法。本标准适用于高纯钨中痕量杂质的测定,测定范围:0.0001%~0.010%。英文名称：Methods for chemical analysis of the high purity tungsten—Determination of trace impurity element content—Inductively coupled plasma mass spectrometry
标准状态：现行
中标分类：冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物
ICS分类：冶金>>有色金属>>77.120.99其他有色金属及其合金
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
出版日期：2014-03-01
页数：8页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。本标准起草单位:北京有色金属研究总院、金川新材料科技股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司。本标准主要起草人:张殿凯、李艳芬、刘英、孙泽明、童坚、臧慕文、张江峰、邱平、文英。
