标准简介
本标准规定了高纯砷中金属杂质含量的测定方法，采用电感耦合等离子质谱法测定砷中镁、铬、镍、铜、锌、银、锑、铅、铋、钠、钾、铝、钙、铁等14个杂质含量。本标准适用于99.999%～99.99999%高纯砷中金属杂质含量的测定。测定范围1×10-7% ～1000×10-7% 。英文名称：Method for chemical analysis of the high-purity arsenic—Inductive coupling plasma mass spectrum (ICP-MS) for determinating the concentration of elements in the high-purity arsenic
标准状态：现行
替代情况：替代YS/T 34.1～34.2-1992
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：冶金>>金属材料试验>>77.040.30金属材料化学分析
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2011-12-20
实施日期：2012-07-01
出版日期：2012-07-01
页数：12页
前言
YS/T34《高纯砷化学分析方法》包括3个部分:———第1部分:高纯砷化学分析方法 电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯砷中杂质含量;———第2部分:高纯砷化学分析方法 *谱法测定硒量;———第3部分:高纯砷化学分析方法 *谱法测定硫量。本部分是YS/T34的第1部分。本部分代替YS/T34.1—1992《高纯砷化学分析方法 孔雀绿分光光度法测定锑量》和YS/T34.2—1992《高纯砷化学分析方法 化学光谱法测钴、锌、银、铜、钙、铝、镍、铬、铅、镁、铁量》。本部分与YS/T34.1~34.2—1992标准相比,主要有如下变动:———采用电感耦合等离子质谱法测定高纯砷中镁、铬、镍、铜、锌、银、铅、铋、钠、钾、铝、钙、铁、锑等14个杂质的含量。———按照GB/T1.1—2009《标准化工作导则 第1部分:标准的结构和编写》的规定编写。本部分由全国有色金属标准化技术委员会归口。本部分负责起草单位:峨嵋半导体材料厂、峨眉山嘉美高纯材料有限公司。本部分主要起草人:程高明、邹同贵、文英、唐云博、廖敏。本部分所代替标准的历次版本发布情况为:———YS/T34.1~34.2—1992。
