标准简介
本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。英文名称:Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target
标准状态:现行
中标分类:冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
ICS分类:冶金>>有色金属>>77.120.99其他有色金属及其合金
发布部门:工业和信息化部
发布日期:2016-07-11
实施日期:2017-01-01
出版日期:2017-01-01
页数:8页
前言
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