标准简介
本标准规定了磁记录及集成电路领域钌系溅射靶材用钌粉的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和合同（或订货单）内容。本标准适用于制备磁记录及集成电路领域钌系溅射靶材用钌粉。英文名称：Ruthenium powder for ruthenium sputttering target
标准状态：现行
中标分类：冶金>>有色金属及其合金产品>>H62重金属及其合金
ICS分类：冶金>>有色金属产品>>77.150.30铜产品
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
出版日期：2015-10-01
页数：12页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。本标准起草单位:贵研铂业股份有限公司、有色金属技术经济研究院。本标准起草人:谭志龙、郭俊梅、张俊敏、向磊、王传军、毕珺、闻明、管伟明、陈松、朱武勋。
