GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量X射线光电子能谱法

检测标准有哪些内容？检测标准都涵盖了哪些方面？ GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量X射线光电子能谱法
【英文标准名称】: Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
【中文标准名称】: 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量X射线光电子能谱法
【标准号】: GB/T 25188-2010
【标准状态】: 即将实施
【发布日期】: 2010-09-26
【实施日期】: 2011-08-01
【发布部门】: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局;中国国家标准化管理委员会
【起草单位】: 中国科学院化学研究所;中国计量科学研究院
【起草人】: 刘芬;王海;赵良仲;宋小平;赵志娟;邱丽美
【标准技术委员会】: 全国微束分析标准化技术委员会
【中国标准分类号】: G04
【国际标准分类号】: 71_040_40