GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法 现行

标准号：GB/T 31225-2014
中文标准名称：椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法
英文标准名称：Test method for the thickness of silicon oxide on Si substrate by ellipsometer
标准状态：现行,发布于2014-09-30; 实施于2015-04-15; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2014-09-30
实施日期：2015-04-15
中国标准分类号：17.040.01
国际标准分类号：17.040.01
归口单位：全国纳米技术标准化技术委员会
执行单位：全国纳米技术标准化技术委员会
主管部门：中国科学院
起草单位：上海交通大学;纳米技术及应用国家工程研究中心
相近标准：20078473-T-491 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法; GB/T 20020-2013 气相二氧化硅; 20102180-T-606 气相二氧化硅; 20031529-T-606 气相二氧化硅; GB/T 20020-2005 气相二氧化硅; QB/T 2346-2007 牙膏用二氧化硅; QB/T 2346-1997 牙膏用二氧化硅; HG/T 4526-2013 消光用二氧化硅; GB/T 32661-2016 球形二氧化硅微粉; 20082071-T-609 球形二氧化硅微粉