GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 被代替

标准号：GB/T 4058-1995
中文标准名称：硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
英文标准名称：Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
标准状态：被代替,发布于1995-04-18; 实施于1995-12-01; 被代替于2010-06-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：1995-04-18
实施日期：1995-12-01
中国标准分类号：77.040.30
国际标准分类号：77.040.30
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：峨嵋半导体材料厂
被以下标准代替：被GB/T4058-2009GB/T4058-2009全部代替
采标情况：本标准等效采用ITU国际标准：ASTM F47:1988。
采标中文名称:。
相近标准：GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法; 20065627-T-469 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法; GB/T 6624-1995 硅抛光片表面质量目测检验方法; GB/T 6624-2009 硅抛光片表面质量目测检验方法; 20065626-T-469 硅抛光片表面质量目测检验方法; YS/T 25-1992 硅抛光片表面清洗方法; GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片; GB/T 12964-2003 硅单晶抛光片; 20151794-T-469 硅单晶抛光片; 硅单晶抛光片