标准号：20173545-T-469
中文标准名称：硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文标准名称：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
标准状态：已发布
标准类型：国标计划
发布日期：1999/12/31 12:00:00
实施日期：1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号：有研半导体材料有限公司
国际标准分类号：77.040
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：南京国盛电子有限公司
起草人：潘文宾
相近标准： 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 ;GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合
标准制修订：制订
20173545-T-469 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 已发布
百检网 2021-07-29
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