GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法.第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

百检网 2021-07-29
标准号:GB/T 14849.4-2008
中文标准名称:工业硅化学分析方法.第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
英文标准名称:Methods for chemical analysis of silicon metal.Part 4: Determination of elements content.Inductively coupled plasma atomic emission specrometric method
标准类型:H17
发布日期:2008/6/9 12:00:00
实施日期:2008/12/1 12:00:00
中国标准分类号:H17
国际标准分类号:77.120.10
适用范围:本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛锰、镍含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛锰、镍含量的测定,测定范围见表1。

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