标准号：GB/T 28274-2012
中文标准名称：硅基MEMS制造技术.版图设计基本规则
英文标准名称：Silicon-based MEMS fabrication technology.The basic regulation of layout design
标准类型：L55
发布日期：2012/5/11 12:00:00
实施日期：2012/12/1 12:00:00
中国标准分类号：L55
国际标准分类号：31.200
引用标准：GB/T 26111-2010
适用范围：本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积（CVD）、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术.版图设计基本规则
百检网 2021-07-31
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