20192091-T-469 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染 已发布

百检网 2021-08-05
标准号:20192091-T-469
中文标准名称:表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染
英文标准名称:Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
标准状态:已发布
标准类型:国标计划
发布日期:1999/12/31 12:00:00
实施日期:1999/12/31 12:00:00
中国标准分类号:华南理工大学
国际标准分类号:71.040.40
归口单位:全国微束分析标准化技术委员会
主管部门:国家标准化管理委员会
起草单位:中国计量科学研究院
起草人:张艾蕊
相近标准:GB/T 40110-2021  表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染;  表面化学分析 全
标准制修订:制订

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