YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶现行

百检网 2021-08-06

标准号：YS/T 718-2009
中文标准名称：平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶
标准状态：现行
标准类型：行业标准
发布日期：2009/12/4 12:00:00
实施日期：2010/6/1 12:00:00
中国标准分类号：H63
国际标准分类号：77.150.99
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
主管部门：工业和信息化部
起草单位：利达光电股份有限公司
起草人：李智超
相近标准：YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶;YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材;YS/T

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