标准简介
本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。英文名称：General specification of ion implantation equipment
标准状态：现行
替代情况：替代GB/T 15862-1995
中标分类：电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备
ICS分类：31-550
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2012-11-05
实施日期：2013-02-15
出版日期：2013-02-15
页数：16页
前言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准代替GB/T15862—1995《离子注入机通用技术条件》。本标准与GB/T15862—1995相比主要变化如下:———GBn193—1983由GB/T13384—1992代替;———增加术语“注入角度”(见3.6)、“*大晶片传输效率”(见3.7),并在性能指标及测试方法中做相应要求(见6.4.6);———环境温度调整为23℃±2℃;相对湿度规定范围30%~50%(见5.1.3);———安全要求中增加“警示标识”的条款(见6.3.1);———去掉表3、表4;———均匀性测量增加了热波探针法测量条件和方法(见6.4.4.1b));———重复性测量增加了批间重复性测量方法(见6.4.5.2);———检验规则去掉例行检验项。本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。本标准由中国电子技术标准化研究所归口。本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所。本标准主要起草人:郭健辉、彭立波、罗宏洋。本标准所代替标准的历次版本发布情况为:———GB/T15862—1995。
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