标准简介
本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩膜制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。英文名称：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
标准状态：现行
中标分类：电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备
ICS分类：电子学>>31.020电子元件综合
发布部门：国家技术监督局
发布日期：1997-06-20
实施日期：1998-03-01
出版日期：2004-04-11
页数：平装16开， 页数：9， 字数：12千字
前言
加工专用设备相关标准
