标准简介
本标准规定了氦的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从天然气、空气和工厂弛放气中提取的气态和液态氦,以及经纯化方法得到的氦。它们在半导体制造中用作清洗气、加压气,也用作载气和保护气等。英文名称：Gas for electronic industry—Helium
标准状态：现行
替代情况：替代GB/T 16943-1997
中标分类：化工>>其他化工产品>>G86工业气体与化学气体
ICS分类：化工技术>>化工产品>>71.100.20工业气体
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-05-01
出版日期：2010-05-01
页数：12页
前言
本标准代替GB/T16943-1997《电子工业用气体 氦》。本标准与GB/T16943-1997相比主要变化如下:---修改氦的适用范围(GB/T16943-1997的第1章,本版的第1章);---修改规范性引用文件(GB/T16943-1997的第2章,本版的第2章);---修改技术指标内容:增加一类产品纯度和杂质含量(GB/T16943-1997 的第3 章,本版的第3章);---修改瓶装氦抽样方法(GB/T16943-1997的4.1,本版的4.1.1);---增加集装阁装、大容积钢质无缝气瓶装和杜瓦罐装氦产品并规定检验方法(见4.1.1);---增加管道输送的氦产品并规定检验方法(见4.1.2);---增加氦的采样安全要求(见4.1.3);---增加新的分析方法:增加用氦放电离子化气相色谱法测定氦中的氧、一氧化碳和二氧化碳组分;增加其他方法测定总烃含量;当出现多种分析方法时,增加规定仲裁方法(见4.3);---修改水分的测定方法(GB/T16945-1997的4.5,本版的4.5);---修改标志、包装、贮运及安全(GB/T16943-1997的第5章,本版的第5章);---增加安全要求(见5.6);---增加规范性附录A,并把采用氦离子化气相色谱法测定氦中的氧、氮、一氧化碳和二氧化碳组分的方法写入该附录(见附录A)。本标准的附录A 为规范性附录。本标准由全国半导体材料和设备标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体材料和设备标准化技术委员会气体分会归口。本标准起草单位:西南油气田分公司成都天然气化工总厂、北京氦普北分气体工业有限公司、西南化工研究设计院。本标准主要起草人:刘泽军、付永成、赵俊秀、周鹏云。本标准所代替标准的历次版本发布情况为:---GB/T16943-1997。
