GB/T 24574-2009 硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法

标准简介

本标准规定了硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法。 本标准适用于低位错单晶硅中导电性杂质硼和磷含量的同时测定。 本标准用于检测单晶硅中含量为1×1011at·cm-3~5×1015at·cm-3的各种电活性杂质元素。
英文名称：Test methods for photoluminescence analysis of single crystal silicon for Ⅲ-Ⅴ impurities
标准状态：现行
中标分类：冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合
ICS分类：电气工程>>29.045半导体材料
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
出版日期：2010-06-01
页数：16页

前言

本标准修改采用SEMIMF1389-0704《Ⅲ-Ⅴ号混杂物中对单晶体硅的光致发光分析的测试方法》。本标准对SEMIMF1389-0704格式进行了相应调整。为了方便比较,在资料性附录B中列出了本标准章条和SEMIMF1389-0704章条对照一览表。并对SEMIMF1389��0704条款的修改处用垂直单线标识在它们所涉及的条款的页边空白处。本标准与SEMIMF1389-0704相比,主要技术差异如下:---删除了目的、术语和定义中的讨论部分、偏差和关键词等章节的内容;---删除了SEMIMF1389��0704中对砷铝含量测定的内容;---将实际测试得到的单一试验室的精密度结果代替原标准SEMIMF1389-0704中的精度和偏差部分,并将原标准中的精度和偏差部分作为资料性附录A 。本标准的附录A 和附录B为资料性附录。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准起草单位:信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。本标准主要起草人:李静、何秀坤、蔺娴。