标准简介
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。 本文件适用于以下情形： ——原子序数从16（S）到92（U）的元素； ——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素； ——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。英文名称：Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
标准状态：现行
中标分类：化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
ICS分类：化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析
发布部门：国家市场监督管理总局.
发布日期：2021-05-21
实施日期：2021-12-01
出版日期：2021-05-01
页数：28页
前言
基础标准与通用方法相关标准
