标准简介
本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二*管 P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式:SiF4。相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。英文名称：Gases for electronic industry—Silicon tetrafluoride
标准状态：现行
中标分类：化工>>其他化工产品>>G86工业气体与化学气体
ICS分类：化工技术>>化工产品>>71.100.20工业气体
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2014-12-22
实施日期：2015-07-01
出版日期：2015-07-01
页数：8页
前言
本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。本标准起草单位:核工业理化工程研究院华核新技术开发公司、佛山市华特气体有限公司、绿菱电子材料(天津)有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、贵州大学、西南化工研究设计院有限公司。本标准主要起草人:邓建平、李于教、傅铸红、汤有伦、崔学文、方华、唐安江、周鹏云。
