标准简介
本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。 本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。英文名称：Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
标准状态：现行
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：冶金>>金属材料试验>>77.040.30金属材料化学分析
发布部门：国家市场监督管理总局.
实施日期：2019-04-01
出版日期：2019-01-01
页数：12页
前言
半金属及半导体材料分析方法相关标准
