靶材检测

靶材检测标准

ASTM F1709-1997(2008)电子薄膜用高纯度钛溅射靶材的规格

GB/T 20510-2017氧化铟锡靶材

GB/T 23611-2009金靶材

GB/T 29658-2013电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

GB/T 38389-2019氧化铟锡靶材化学分析方法

GB/T 39157-2020靶材技术成熟度等级划分及定义

GB/T 39159-2020集成电路用高纯铜合金靶材

GB/T 39160-2020薄膜太阳能电池用碲锌镉靶材

GB/T 39163-2020靶材与背板结合强度测试方法

JC/T 2201-2013镀膜玻璃用靶材

T/CAS 304-2018磁控溅射硅靶材及绑定靶材

T/CSRE 19001-2020金属镱靶材

T/ZZB 0093-2016集成电路用高纯钛溅射靶材

T/ZZB 0639-2018氧化锌铝磁控溅射靶材

XB/T 512-2020镝、铽金属靶材

XB/T 515-2020钪铝合金靶材

YS/T 718-2009平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

YS/T 719-2009平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

YS/T 819-2012电子薄膜用高纯铜溅射靶材

YS/T 826-2012五氧化二铌靶材

YS/T 837-2012溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法

YS/T 893-2013电子薄膜用高纯钛溅射靶材

YS/T 935-2013电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

YS/T 936-2013集成电路器件用镍钒合金靶材

YS/T 937-2013镍铂靶材

YS/T 1024-2015溅射用钽靶材

YS/T 1025-2015电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

YS/T 1053-2015电子薄膜用高纯钴靶材

YS/T 1063-2015钼靶材

YS/T 1124-2016磁性溅射靶材透磁率测试方法

YS/T 1129-2016钨钛合金靶材

YS/T 1156 0190 2607-2016铜铟镓硒靶材

YS/T 1158.1-2016铜铟镓硒靶材化学分析方法 第1部分：镓量和铟量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

YS/T 1158.2-2016铜铟镓硒靶材化学分析方法 第2部分：硒量的测定 重量法

YS/T 1158.3-2016铜铟镓硒靶材化学分析方法 第3部分：铝、铁、镍、铬、锰、铅、 锌、镉、钴、钼、钡、镁量的测定 电感耦合等离子体质谱法

YS/T 1220-2018铬靶材

YS/T 1234-2018铬钼合金(CrMo)靶材

YS/T 1235-2018钼钛合金(MoTi)靶材

YS/T 1357-2020磁记录用铬钽钛合金溅射靶材

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