光刻胶厚度检测
我们测量什么?材料要求:
全都是至少有部分透明的薄膜， 加上所有的半导体 (透明或不透明)。薄膜在外观上至少要有某种程度的光泽。
厚度范围:
我们能测量从 3nm 到500um 的厚度。能够测量 70nm 到10um 厚薄膜的折射率。
可测量的层数:
我们通常能够测量某个薄膜堆内的*多三层独立薄膜。 在某些情况下，我们能够测量到几十层。
基板材料:
如果薄膜位于粗糙基板 (其中包括大多数金属) 上的话， 一般不能测量薄膜的折射率。 此外，粗糙基板还将*低的可测量薄膜厚度限制为大约50nm。
所需的信息:
我们必须知道目前存在所有薄膜的种类、特征和预估厚度，
l 以上要求和标准仅供参考，具体测量建议来电和我们专业工程师直接交流。
以上文章内容为部分列举，更多检测需求及详情免费咨询机构在线顾问：15201733840(电话及微信)，做检测上百检网-出具权威检测报告具有法律效力。
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