标准简介
本标准规定了电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定硅片表面金属元素含量的方法。 本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1013cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。英文名称：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
标准状态：现行
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：冶金>>77.040金属材料试验
发布部门：国家市场监督管理总局.
发布日期：2020-10-11
实施日期：2021-09-01
出版日期：2020-10-01
页数：12页
前言
半金属及半导体材料分析方法相关标准
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