标准号:GB/T 6624-2009
中文标准名称:硅抛光片表面质量目测检验方法
英文标准名称:Standard method for measuring the surface quality of polished silicon slices by visual inspection
标准状态:现行,发布于2009-10-30; 实施于2010-06-01; 废止
标准类型:国家标准
标准性质:推荐性
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
中国标准分类号:29.045
国际标准分类号:29.045
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门:国家标准化管理委员会
起草单位:上海合晶硅材料有限公司
全部替代标准:GB/T 6624-1995
相近标准:GB/T 6624-1995 硅抛光片表面质量目测检验方法; 20065626-T-469 硅抛光片表面质量目测检验方法; 20000544-T-610 硅抛光片表面质量(颗粒)检测方法; SJ/T 11504-2015 碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法; YS/T 25-1992 硅抛光片表面清洗方法; GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法; GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法; 20065627-T-469 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法; GB/T 19921-2018 硅抛光片表面颗粒测试方法; 20151791-T-469 硅抛光片表面颗粒测试方法