详细信息
主要技术指标：
光学膜厚仪监控波长范围：400-2500nm，波长精度：<±1nm， 配置离子源，离子流密度分布均匀; 基底*高加热温度：300℃。 目前可淀积材料包括：Si、SiO、ZnS、Ge等 蒸发速率0.**/s-20A/s， 工作真空：1E-6mbar， 气体（Ar、O2）
主要功能：
主要用于红外波段光学增透膜、高反膜、截止滤光片，窄带、超窄带、*窄带滤光片等光学薄膜蒸镀，配备两把电子枪、电阻加热蒸发源和等离子体辅助源，一次可蒸镀多片不同尺寸（1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、40mm*40mm、10mm*10mm等）的样品
