SEM原理
高能的入射电子轰击物质表面时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子，以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射.
仪器技术参数
分辨率: 30 kV，3.0 nm(高真空模式), 背散射电子分辨率30 kV，4.0 nm(高真空模式). 放大倍率: ×5 - ×300,000. 加速电压0.3 - 30 Kv.
送样要求
- 1-5g之间，能把3-5mm直接样品填满即可。块状样品不能大于5mm宽，高度小于5mm.
应用领域
材料，粉体，矿物粒径大小，表面断面形貌分析, 填料分散状态复合材料结构, 材料晶型分析晶粒大小,材料物相分析。元素定性分析。
适用标准
GB/T 16594-2008微米级长度的扫描电镜测量方法通则
GB/T 17362-2008 黄金制品的扫描电镜X射线能谱分析方法
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