GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法 被代替

标准号：GB/T 24578-2009
中文标准名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
英文标准名称：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
标准状态：被代替,发布于2009-10-30; 实施于2010-06-01; 被代替于2017-01-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
中国标准分类号：29.045
国际标准分类号：29.045
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：有研半导体材料股份有限公司;万向硅峰电子有限公司
被以下标准代替：被GB/T24578-2015GB/T24578-2015全部代替
相近标准：GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法; 20120277-T-469 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法; 20070862-T-469 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法; 半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法; 20192091-T-469 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染; 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染; GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定; 20110879-T-469 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定; 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析; GB/T 6621-2009 硅片表面平整度测试方法