标准号：GB/T 14849.4-2008
中文标准名称：工业硅化学分析方法.第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
英文标准名称：Methods for chemical analysis of silicon metal.Part 4: Determination of elements content.Inductively coupled plasma atomic emission specrometric method
标准类型：H17
发布日期：2008/6/9 12:00:00
实施日期：2008/12/1 12:00:00
中国标准分类号：H17
国际标准分类号：77.120.10
适用范围：本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛锰、镍含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛锰、镍含量的测定，测定范围见表1。
GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法.第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
百检网 2021-07-31
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