详细信息
主要技术指标：
可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。 蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In等 *限真空：2E-7 Torr（ 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr ） 薄膜均匀性：±4% （ 4英寸 ） 装片：小于4英寸的任意规格的样品若干 样品台：带连续旋转，转速 0-20 rpm。在位倾斜角度 -45 - 45 可调
主要功能：
在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备
服务信息
服务内容：
蒸镀金属薄膜
收费标准：
900
用户须知：
每小时600元 60/10nm贵金属
