1 范围
本标准规定了镀膜玻璃生产的术语和定义、分类、材料、制作、成品检验以及包装、标志、运输和贮存。
本标准适用于磁控溅射镀膜玻璃和在线化学气相沉积镀膜玻璃的生产。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注山期的版木适用于木文件。凡是不注日期的引用文件，其*新版本(包括所有的修改单)适用于木文件。
GB/T 728-1998 锡锭
GB/T 3620.1-2007 钛及钛合**号和化学成分
GB/T 6382.1 平板玻璃集装器具 架式集装器及其试验方法
GB/T 6382.2 平板玻璃集装器具 箱式集装器及其试验方法
GB/T 20878-2007 不锈钢和耐热钢 牌号及化学成分
GB/T 18915.1 镀膜玻璃 第1部分：阳光控制镀膜玻璃
GB/T 18915.2 镀膜玻璃 第2部分：低辐射镀膜玻璃
JC/T 513 平板玻璃木箱包装
3 术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1 靶材 sputtering target
被高速荷能粒子轰击的，可沉积或反应成膜的固体材料。
3.2 磁控溅射镀膜 magnetron sputtering coating
真空环境中，在电场及磁场的作用下，靶材被气体辉光放电产生的荷能离子轰計，粒子从其表面射出，在被镀基体表面沉积或反应成膜的工艺过程。
3.3 镀膜前驱体 coating precursor
含有构成薄膜成分的化学物质，可通过化学反应在高温基体表面形成膜层。
3.4 化学气相沉积镀膜 chemical vapor deposition coating
将镀膜前驱体施加到高温基体表面，在气相-固相界面发生化学反应，在基体表面沉积反应成膜的工艺过程。
3.5 工艺气体 process gas
磁控溅射过程中用于产生等离子体或发生特定化学反应的一种或儿种气体。化学气相沉积过程中镀膜前驱体气体、反应气体及载体气体的总称。
3.6 镀膜反应器 coating reactor
在化学气相沉积镀膜过程中，将工艺气体喷射到基体表面的特定装置。
3.7 阴* cathode
在磁控溅射镀膜工艺中，承载靶材实现磁控溅射的装置。装置内包括磁性材料、冷却装置、屏蔽装置等。
3.8 可热加工的镀膜玻璃 heat treatable coated glass
指热加工后膜层性能稳定，各项指标仍符合柑关国家标准或行业标准的镀膜玻璃。
4 分类
4.1 按产品性能分为阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。
4.2 按生产工艺分为离线磁控溅射镀膜和在线化学气相沉积镀膜。
5 材料
5.1 磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料
磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、靶材、工艺气体、保护膜、干燥剂等，各种材料均应符合相应国家标准或行业标准的要求以及生产工艺要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。
5.1.1 玻璃
磁控溅射镀膜玻璃可选用平板玻璃、防火玻璃、钢化玻璃、夹层玻璃、半钢化玻璃、压花玻璃、超白浮法玻璃等作为基体材料。
5.1.2 靶材
磁控溅射镀膜⊥艺常用靶材可参见附录A。
5.1.3 工艺气体
工艺气体包括高纯度的氩气、氮气、氧气等。
5.1.4 其他材料
包括保护膜、干燥剂、隔离粉、珍珠棉、惰性气体等。
5.2 化学气相沉积镀膜玻璃材料
化学气相沉积镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、镀膜前驱体、工艺气休等。各种材料均应符合相应国家标准或行业标准的要求，尚无相应标准的材料应符合设计要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。
5.2.1 玻璃
化学气相沉积镀膜玻璃可选用平板玻璃、超白浮法玻璃等作为材料。
5.2.2 镀膜前驱体
化学气相沉积镀膜工常用的镀膜前驱体可参见附录B。
6 制作
6.1 一般要求
6.1.1 镀膜玻璃生产企业应具备满足生产要求的设备，并定期进行维护保养。
6.1.2 镀膜玻璃生产企业应具备必要的量具和检测设备，并定期进行计量检定。应具备的膜层检测设备有在线分光光度计、离线分光光度计、耐磨试验机和方块电阻测量仪。宜具备辐射率测定仪、红外分光光度计、雾度仪、台阶仪、椭偏仪等。
6.1.3 从事镀膜玻璃生产的作业人员，应具备相应的专业技能并经过安全操作培训，持证上岗。
6.1.4 镀膜玻璃的生产应具备工艺操作规程、作业指导书、安全操作规程、应急方案等。
6.1.5 磁控溅射镀膜的基片宜选用近期生产的玻璃，必要时应进行抛光处理。
6.1.6 磁控溅射镀膜玻璃生产应具备上下片台、清洗机、磁控溅射装置、生产监控、在线检测、循环冷却水系统、水处理系统等装置。
6.1.7 磁控溅射镀膜工艺室的基础真空度宜优于5×10-3Pa。
6.1.8 镀膜面宜为玻璃的非锡面。
6.1.9 清洗用去离子水电阻宜大手5MΩ。
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