硅片清洗剂配方研发成分分析技术

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一、硅片清洗剂成分概念
晶圆清洁剂广泛用于光伏，电子和其他行业中，以清洁硅晶圆； 硅晶片在运输过程中将被污染，因此必须清洁硅晶片的表面。 通过清洁去除表面上的有机污染物，然后溶解氧化膜，因为氧化层被“污染并污染”，这可能导致外延缺陷； 去除颗粒，金属等，并钝化硅晶片的表面。
传统的RCA清洁方法可以去除硅晶片表面上的金属，有机物等，还可以去除小颗粒和其他污染物。
二、硅片清洗剂成分解密
该产品是高浓缩液，主要由钾盐，络合剂和助洗剂组成。 它具有很强的清洁能力。 它在清洁硅材料方面具有非常出色的性能。 它对铜，铁和其他金属离子具有非常好的性能。 强大的剥离，络合和清洁效果，测试后油渍的清洁率超过99％
三、硅片清洗剂配方参考
主要由苛性碱，磷酸盐，硅酸盐，碳酸盐组成
 1.在整个清洁过程中，清洁人员不得直接触摸硅片，并且必须戴上橡胶手套以免产生指纹。
2.为了确保清洁硅片的清洁度，*好在脱胶前控制喷雾漂洗时间超过30分钟。
3。 如果在使用过程中遇到脏膜，白点等问题，可以及时联系技术服务人员。
4。 4.产品在排放过程中仅需要简单的处理，例如中和，絮凝，沉淀等。 该产品不含重金属，磷酸和a。 对于残渣较多的硅片，可以适当延长清洗时间
四、硅片清洗剂配方研发成分分析技术
通过采用光谱，色谱，质谱，能谱，热谱等图谱分析技术对产品或样品组成成分、元素或原料等成分进行分析，得到产品的配方。通过针对几万种材料进行的配方还原。
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