标准简介
本标准规定了采用惰性气体熔融及红外技术测试硅材料中氧含量的方法。 本标准适用于不同导电类型、不同电阻率范围的硅单晶、多晶硅中氧含量的测试，测试范围为2.5×1015 cm-3（0.05 ppma）～2.5×1018 cm-3（50 ppma）。 注：硅材料中的氧含量以每立方厘米中的原子数计。英文名称：Test method for the oxygen concentration in silicon materials—Inert gas fusion infrared detection method
标准状态：现行
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：冶金>>77.040金属材料试验
发布部门：国家市场监督管理总局.
发布日期：2020-07-21
实施日期：2021-06-01
出版日期：2020-07-01
页数：8页
前言
半金属及半导体材料分析方法相关标准
