标准简介
本标准规定了利用双晶 X射线衍射仪测试氮化镓单晶衬底片摇摆曲线半高宽的方法。 本标准适用于化学气相沉积及其他方法生长制备的氮化镓单晶衬底片。英文名称：Test method for full width at half maximum of double crystal X-ray rocking curve of GaN single crystal substrate
标准状态：现行
中标分类：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
ICS分类：冶金>>77.040金属材料试验
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2015-12-10
实施日期：2016-11-01
出版日期：2016-11-01
页数：12页
前言
本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。本标准起草单位:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、中国科学院物理研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、丹东新东方晶体仪器有限公司。本标准主要起 草 人:邱 永 鑫、任 国 强、刘 争 晖、曾 雄 辉、王 建 峰、陈 小 龙、王 文 军、郑 红 军、徐 科、赵松彬。
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