标准简介
本标准规定了低位错密度锗单晶片的腐蚀坑密度(EPD)的测量方法。? 本标准适用于测试位错密度小于1 000个/cm??2?、直径为75 mm~150 mm的圆形锗单晶片的位错腐蚀坑密度。英文名称：Test method for measuring etch pit density(EPD) in low dislocation density monocrystalline germanium slices
标准状态：现行
中标分类：冶金>>金属理化性能试验方法>>H25金属化学性能试验方法
ICS分类：冶金>>77.040金属材料试验
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2017-10-14
实施日期：2018-07-01
页数：8页【彩图】
前言
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