GB/T 24576-2009 高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法 现行

标准号：GB/T 24576-2009
中文标准名称：高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法
英文标准名称：Test method for measuring the Al fraction in AlGaAs on GaAs substrates by high resolution X-ray diffraction
标准状态：现行,发布于2009-10-30; 实施于2010-06-01; 废止
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
中国标准分类号：29.045
国际标准分类号：29.045
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心;中国电子科技集团公司第四十六研究所
采标情况：本标准等同采用其他国际标准：SMEI M63-0306。
采标中文名称:准则：采用高分辨率X光衍射法测量砷化镓衬底上AlGaAs中Al百分含量的测试方法。
相近标准：20070860-T-469 高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法; JB/T 8258-1995 摄影镜头分辩率测试图; JB/T 8248.6-1995 照相镜头照相分辩率测定方法; YY/T 0586-2005 医用高分子制品X射线不透性试验方法; YY/T 0586-2016 医用高分子制品 X射线不透性试验方法; EJ/T 903.4-1994 闪烁体性能测量方法 固有幅度分辩率; SL 536-2011 X射线衍射应力测定装置校验方法; JB/T 7799-1995 彩色扩印机镜头分辩率测试片; SJ/T 10624-1995 X射线管寿命试验方法; JB/T 11144-2011 X射线衍射仪