磁控溅射系统

百检网 2021-11-11

主要技术指标

JGP-560,真空室尺寸:梨型真空室,真空系统配置:分子泵、机械泵、闸板阀,*限压力:≤2.0x10-5Pa (经烘烤除气后) ,恢复真空时间:40分钟可达到6.6x10-4Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气),样品尺寸:Ф65mm,可放置4片,加热基片加热*高温度:500°C±1°C 。

主要功能/应用范围

用于单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备,广泛的应用于高等院校、科研院所的薄膜材料科研。

服务内容

用于开展ZnO等薄膜的实验制备

服务的典型成果

对外开放共享规定

科研合作共享

参考收费标准

不收费

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客户案例展示

  • 上海朗波王服饰有限公司
  • 浙江圣达生物药业股份有限公司
  • 天津市长庆电子科技有限公司
  • 上海纽特丝纺织品有限公司
  • 无锡露米娅纺织有限公司
  • 东方电气风电(凉山)有限公司