标准简介
本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括：含特制图形缺陷的测试芯片，以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单集合而成，所以在本标准中，测试芯片是用单图形、单图形中的特制缺陷、以及单的布局来定义的。此外，测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。英文名称：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
标准状态：现行
中标分类：电子元器件与信息技术>>微电路>>L56半导体集成电路
ICS分类：电子学>>31.200集成电路、微电子学
发布部门：国家质量技术监督局
发布日期：1999-09-01
实施日期：2000-06-01
出版日期：2004-08-22
页数：平装16开， 页数：13， 字数：21千字
前言
半导体集成电路相关标准
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