GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

标准简介

GB/T14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼 含量的测定方法。 本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。
英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of impurity contents—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准状态：现行
替代情况：替代GB/T 14849.4-2008
中标分类：冶金>>金属化学分析方法>>H12轻金属及其合金分析方法
ICS分类：冶金>>有色金属>>77.120.10铝和铝合金
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2014-12-05
实施日期：2015-08-01
出版日期：2015-08-01
页数：16页

前言

GB/T14849《工业硅化学分析方法》分为9个部分:———第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法;———第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法;———第3部分:钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法;———第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法;———第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法;———第6部分:碳含量的测定 红外吸收法;———第7部分:磷含量的测定 钼蓝分光光度法;———第8部分:铜含量的测定 PADAP分光光度法;———第9部分:钛含量的测定 二安替比林甲烷分光光度法。本部分为 GB/T14849的第4部分。本部分按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。本部分代替 GB/T14849.4—2008《工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体发射光谱法测定元素含量》。与 GB/T14849.4—2008相比,主要技术变化如下:———增加了铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼的检测;———增加了两种溶样方式;———补充了重复性限、再现性限实验数据。本部分由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。本部分负责起草单位:昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司。本部分参加起草单位:云南出入境检验检疫局技术中心、通标标准技术服务有限公司、浙江合盛硅业有限公司、云南永昌硅业股份有限公司。本部分主要起 草 人:刘 维 理、王 劲 榕、李 跃 平、赵 德 平、杨 毅、赵 建 为、王 云 舟、王 宏 磊、聂 长 虹、刘英波、卢国洪、吴豫强、张云晖、谭少姬、程志武、周杰。本部分所代替标准的历次版本发布情况为:———GB/T14849.4—2008。