标准简介
本标准规定了用高分辨X 射线衍射测量GaAs衬底上AlGaAs外延层中Al含量的试验方法。 本方法适用于在未掺杂GaAs衬底<001>方向上生长的AlGaAs外延层中Al含量的测定,使用 本方法测量Al元素含量时,AlGaAs外延层厚度应大于300nm。英文名称：Test method for measuring the Al fraction in AlGaAs on GaAs substrates by high resolution X-ray diffraction
标准状态：现行
中标分类：冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合
ICS分类：电气工程>>29.045半导体材料
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
出版日期：2010-06-01
页数：12页
前言
本标准技术内容等同采用SMEIM63��0306《准则:采用高分辨率X 光衍射法测量砷化镓衬底上AlGaAs中Al百分含量的测试方法》。本标准对SMEIM63��0306进行了编辑性修改。本标准的附录A 为资料性附录。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准起草单位:信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。本标准主要起草人:章安辉、黄庆涛、何秀坤。
