标准简介
本标准规定了硅片表面的有机污染物的定性和定量方法,采用气质联用仪或磷选择检测器或者两者同时采用。英文名称：Test methods for analyzing organic contaminants on silicon wafer surfaces by thermal desorption gas chromatography
标准状态：现行
中标分类：冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合
ICS分类：电气工程>>29.045半导体材料
发布部门：国家质量监督检验检疫.
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
出版日期：2010-06-01
页数：16页
前言
本标准修改采用SEMIMF1982��1103《热解吸附气相色谱法评估硅片表面有机污染物的方法》。本标准对SEMIMF1982��1103格式进行了相应调整。为了方便比较,在资料性附录B中列出了本标准章条和SEMIMF1982��1103章条对照一览表。并对SEMIMF1982��1103条款的修改处用垂直单线标识在它们所涉及的条款的页边空白处。本标准与SEMIMF1389��0704相比,主要技术差异如下:---去掉了目的、关键词;---将实际测试得到的单一试验室的精密度结果代替原标准中的精度和偏差部分,并将原标准中的精度和偏差部分作为资料性附录A。本标准的附录A、附录B为资料性附录。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准起草单位:信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。本标准主要起草人:王奕、褚连青、李静。
