标准简介
本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。英文名称：Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
标准状态：作废
替代情况：替代GB 4058-1983;GB 6622-1986;GB 6623-1986;被GB/T 4058-2009代替
中标分类：冶金>>金属理化性能试验方法>>H26金属无损检验方法
ICS分类：冶金>>金属材料试验>>77.040.30金属材料化学分析
发布部门：国家技术监督局
发布日期：1995-04-18
实施日期：1995-01-02
作废日期：2010-06-01
页数：平装16开， 页数：11， 字数：18千字
前言
金属无损检验方法相关标准
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